举办时间：2015年6月4日下午15:00-16:00

举行公司：牛津仪器

研讨会简介：查看详情

LED行业对提高经营成本的积极性推动了牛津仪器的离子技术创新。经过优化的离子体工序为提高器件产量和降低制造成本提供许多途径，达到一石二鸟的效果。LED制造商需要关键的离子体蚀刻步骤（图案化蓝宝石衬底（PSS）和GaN刻蚀）和沉积步骤进行钝化，电流阻挡以及掩模制作。这些都是通过各种技术，例如等离子体增强化学沉积（PECVD）来进行。本次研讨会阐述了通过提高加工率以及同时增加处理晶片的数量的方法，以提高这些工序的生产效率。

主讲人/答疑人介绍：

演讲/答疑专家：Dr Mark Dineen

专家职务：产品经理（光电）

专家简介：

Mark Dineen博士在卡迪夫大学研究氮化镓的等离子体刻蚀并取得博士学位。他自2000年起加入牛津仪器，以III-V族材料为始,其后专注于氮化镓，蓝宝石和HBLED相关材料的蚀刻工作。他在光电子器件制造领域拥有丰富的经验。

演讲/答疑专家：Dr Young Huang

专家职务：现场和实验室应用经理 

专家简介：

Young Huang博士在国立清华大学研究光电技术并取得博士学位。他于2011年起加入牛津仪器从事台湾地区的海外市场营销。黃博士在LED芯片和光学电子化工序领域拥有超过10年的经验。作为现场和实验室应用经理，他负责开发新的应用供需，确保现场客户在应用中获得满意的体验。

公司介绍：

牛津仪器为客户提供灵活，可配置的加工工具，以及针对精确，可控和可重复蚀刻，沉积，微米-纳米结构生长的前沿工艺。

牛津仪器的刻蚀、沉积和生长系统可以为材料的微米、纳米级工程提供工艺方法，可以应用于半导体、光电子、MEMS和微流体、高质量光学涂层及其他多种微纳技术领域。

这些解决方案是基于如下核心技术：

-等离子体刻蚀和沉积

-原子层沉积（ALD）

-离子束蚀刻＆沉积

-深硅刻蚀系统

-磁控溅射

产品范围包括单机研发系统、批处理设备直到具备大规模生产能力的片盒到片盒设备。

参会有礼

在线提问互动有机会赢得牛津仪器提供的奖品：无线鼠标2个、U盘10个！

1)抽取2个参与提问的幸运听众赠送无线鼠标。

2)抽取10个登记参加研讨会的幸运听众赠送U盘。